ICP-מערכת CVD

ICP-מערכת CVD

מערכת Nice-Tech' 8-ICP-CVD מיועדת להצבת סרט דק- על פרוסות בגודל 8-אינץ'. הוא מייצר פלזמה בצפיפות גבוהה באמצעות צימוד אינדוקטיבי (ICP) ומייצר הטיה באמצעות צימוד קיבולי (CCP), המאפשר שקיעה בטמפרטורה נמוכה.
שלח החקירה
תיאור

סקירת מוצר

 

מערכת Nice-Tech' 8-ICP-CVD מיועדת להצבת סרט דק- על פרוסות בגודל 8-אינץ'. הוא מייצר פלזמה בצפיפות גבוהה באמצעות צימוד אינדוקטיבי (ICP) ומייצר הטיה באמצעות צימוד קיבולי (CCP), המאפשר שקיעה בטמפרטורה נמוכה.


תואם לתקני SEMI, הוא משתמש ברכיבים אוניברסליים בגודל 8 אינץ' ועבר מבחני יציבות קפדניים. המערכת תומכת בפרוסות בגודל 8/6 אינץ' (באמצעות אלקטרודות אופציונליות), מתאימה לייצור המוני ולצרכי תהליך מגוונים.

 

יתרונות

טמפרטורה-נמוכה ובצפיפות-גבוהה

מפקיד סרטים בצפיפות- גבוהה ב<120°C, comparable to LPCVD films grown at 750°C, avoiding high-temperature damage to wafers.

ביצועי סרט מעולה

צפיפות זרם הדליפה תואמת לסרטים שהוכנו ALD-, מה שמבטיח יציבות ואמינות חשמלית של המכשיר.

מילוי יחס-היבט- גבוה

מאפשר מילוי אחיד של חורים/חריצים עמוקים, פתרון בעיות מילוי לא אחידות במבנים מורכבים.

תאימות גמישה

עובד עם פרוסות בגודל 8/6 אינץ'; חלקים סטנדרטיים מפחיתים את עלויות התחזוקה ומקלים על האינטגרציה עם קווים קיימים.

 

יישומים

01/

שקיעת שכבת בידוד
עבור התקני לוגיקה/זיכרון בגודל 8 אינץ' (למשל, DRAM, NAND). מפקיד שכבות בידוד SiO₂/SiNₓ כדי להבטיח בידוד חשמלי אמין בין הרכיבים.

02/

מילוי מבנה יחס-גבוה-
מיושם במוליכי הספק ו-MEMS. ממלא תעלות/חללים עמוקים בדיוק גבוה כדי לשפר את שלמות המבנים של המכשיר.

03/

הפקדת אריזה מתקדמת
משמש באריזה ברמת רקיק בגודל 8- אינץ' (WLCSP, SiP). משקעים סרטי בידוד/הגנה לחיזוק אמינות האריזה.

04/

הכנת סרט פונקציונלי מיוחד
מכין סרטים פונקציונליים מיוחדים: ציפויים אנטי-מחזירי אור עבור גלאי פוטו (הגברת ספיגת האור) וסרטים דיאלקטריים-נמוכים עבור התקני RF (הבטחת שלמות האות).

 

פרמטרים

 

קָטֵגוֹרִיָה

מערכת ICP-CVD בגודל 8-

תאימות רקיק

8 אינץ' (ראשי); 6 אינץ' (אופציונלי, באמצעות אלקטרודות תואמות)

טמפרטורת השקיעה

פחות או שווה ל-120 מעלות (תהליך טמפרטורה-נמוכה)

יצירת פלזמה

פלזמת צימוד אינדוקטיבי (ICP) + פלזמת צימוד קיבולית (CCP)

צפיפות הסרט

ניתן להשוות לסרטי LPCVD שגדלו ב-750 מעלות

זרם דליפת סרטים

שווה ערך לסרטים שהוכנו על ידי Deposition Atomic Layer (ALD)

קיבולת מילוי-גבוהה ביחס-

מילוי אחיד לחורים/חריצים עמוקים (מתאים למבני מוליכים למחצה מתקדמים)

חומרים הניתנים להפקדה

SiO₂, SiNₓ וסרטים פונקציונליים אחרים (ניתנים להתאמה אישית על סמך צורכי התהליך)

לשכת תהליכים

עיצוב ואקום גבוה-(מבטיח קומפוזיציה של סרט טהור ותצהיר יציב)

תאימות בתעשייה

תואם לתקני SEMI; תואם לקווי ייצור של רקיקי 8 אינץ'

רכיבי מפתח

חלקים בתקן בינלאומי (מפחית קושי ועלות תחזוקה)

 

שאלות נפוצות

 

ש: באילו גדלי פרוסות המערכת תומכת?

ת: 8 אינץ' (ראשי) ו-6 אינץ' (אופציונלי באמצעות אלקטרודות תואמות).

ש: מהי טמפרטורת השקיעה המקסימלית?

ת: פחות או שווה ל-120 מעלות (תהליך טמפרטורה-נמוכה כדי למנוע נזק לפרוסות).

ש: האם הוא יכול למלא מבני-היבט-גבוהים?

ת: כן, זה מאפשר מילוי אחיד של חורים/חריצים עמוקים.

ש: האם המערכת תואמת לתקנים בתעשייה?

ת: תואם באופן מלא לתקני SEMI, קל לשילוב עם מותגים קיימים בגודל 8 אינץ'.

 

תגיות פופולריות: icp-מערכת cvd, סין icp-יצרנים, ספקים של מערכות cvd

שלח החקירה