אם אי פעם סרקתם רשימות של מערכות ליתוגרפיה ותהיתם, "איזו מהן באמת מתאימה לצרכים שלי?"-אתה לא לבד. בין אם אתה מייצר אב טיפוס במעבדה או מגדיל את הייצור התעשייתי, הבחירה במודל ליטוגרפיית UV ללא מסכות של Nice- מסתכמת בהתאמת היעדים שלך למפרטי מפתח. בוא נפרק את ההרכב שלנו כדי לפשט את הבחירה שלך.
התחל עם ה"חובה-שיש" שלך
ראשית, ענה על שתי שאלות כדי לצמצם אפשרויות במהירות:
מה התכונה הכי קטנה שאני צריך? (קשרים לממד קריטי/מינימום קווים/מרחבים.)
כמה מהר אני צריך לייצר? (קשור למהירות חשיפה.)
כל הדגמים שלנו מדלגים על מסכות פיזיות (גדולות לגמישות!), אבל הם מותאמים לדיוק, מהירות או מצעים גדולים. הנה איך הם מסתדרים.
1. מחקר אקדמי ודיוק-קטן באצווה: MLM 100
עבור מעבדות אוניברסיטאות או סטארט-אפים המייצרים אב טיפוס של מיקרו-מכשירים (MEMS, microfluidics), ה-UV Litho-ACA מאזן בין דיוק ויעילות שטח.
דיוק: 0.8 מיקרומטר מימד קריטי (CD), קווים/רווחים של 1.0 מיקרומטר (מעולה לעבודה בקנה מידה-מעבדה).
מהירות: עד 100 מ"מ לדקה (שלוש אפשרויות עדשות-אידיאליות לבדיקות איטרטיביות).
שטח: קומפקטי 750×800×700 מ"מ (320 ק"ג), צריך רק 1.5 מ'×1.5 מ' (מתאים למעבדות קטנות).
בונוס: גווני אפור אופציונליים, תומך בפורמטים GDS/DWG/DXF.
2. ריצות תעשייתיות-גבוהות: MLM 200
כאשר פרטים-עדינים במיוחד (חיישנים מתקדמים, שבבי-צפיפות גבוהה) ועקביות חשובים, ה-UV Litho-ACA Pro+ מספק.
דיוק: 0.4 מיקרומטר CD, 0.8 מיקרומטר קווים/רווחים, דיוק שכבת-על של 350 ננומטר (מבנים חדים מרובי-שכבות).
מהירות: עד 100 מ"מ²/דקה (ארבע עדשות-יציבות לייצור קטן-עד-בינוני).
הטבה: נתמך בגווני אפור (עד 4096 רמות) עבור מבני מיקרו תלת-ממדיים (למשל, אופטיקה מיקרו-).
שטח: 2.2 מ'×1.7 מ' שטח (590 ק"ג)-מתאים להגדרות תעשייתיות.
3. צרכים קריטיים בגווני אפור: MLM 300
אם הפרויקט שלך דורש גווני אפור (ללא חריגים-לדוגמה, עדשות מיקרו-מותאמות אישית, שתלים ביו-רפואיים), ה-UV Litho-ACA Master בנוי עבורו.
גווני אפור: לא-אופציונלי (ללא פשרות על איכות תלת-ממד).
דיוק: זהה ל-Pro+ (0.4 מיקרומטר CD, דיוק שכבת-על של 350 ננומטר).
מהירות: מהירה יותר מ-Pro+ (עד 150 מ"מ לדקה)-טובה יותר עבור אצווה קצת יותר גדולה.
מרחב: זהה ל-Pro+ (2.2 מ'×1.7 מ', 590 ק"ג).
4. ייצור המוני ומצעים גדולים: MLM 400
עבור עבודה-בנפח גבוה (מסכים גדולים, תאים סולאריים), ה-UV Litho-S נותן עדיפות למהירות ולגודל.
מהירות: המהירה ביותר במערך שלנו-עד 2500 מ"מ²/דקה (שתי עדשות, מקצרת את זמן הייצור).
מצע: מטפל בגודל של עד 200 מ"מ×200 מ"מ (אחרים מקסימום ב-150 מ"מ×150 מ"מ).
דיוק: 1.0 מיקרומטר CD, 2.0 מיקרומטר קווים/רווחים (די והותר לצרכים תעשייתיים).
שטח: 2.7 מ'×2.3 מ' שטח (1400 ק"ג)-אידיאלי עבור רצפות מפעל.
5. דיוק + מצעים גדולים: MLM 500
אם אתה צריך מצעים גדולים ודיוק טוב יותר (חיישנים גמישים-גבוהים), ה-UV Litho-S+ מגיע למקום המתוק.
דיוק: 0.5 מיקרומטר CD, 0.5 מיקרומטר קווים/רווחים, דיוק שכבת-על של 250 ננומטר (הטוב ביותר בהרכב שלנו).
מהירות: עד 1200 מ"מ לדקה (שלוש עדשות-מהירה יותר מסדרת ACA עבור מצעים גדולים).
מצע: 200 מ"מ × 200 מ"מ מקסימום (סולמות ללא החלפת דגמים).
שטח: זהה ל-UV Litho-S (2.7 מ'×2.3 מ', 1400 ק"ג).
דף רמאות מהיר: התאם את הפרויקט שלך
|
סוג פרויקט |
הדגם הטוב ביותר |
סיבה מרכזית |
|
מחקר מעבדה (קבוצות קטנות) |
MLM 100 |
קומפקטי+ דיוק/מהירות מאוזן |
|
ריצות תעשייתיות-בדיוק גבוה |
MLM 200 |
גווני אפור נתמכים ב-0.4μm CD+ |
|
עבודה קריטית בגווני אפור |
MLM 300 |
דיוק עליון לא-אופציונלי בגווני אפור+ |
|
ייצור המוני (מצעים גדולים) |
MLM 400 |
תמיכה של 2500 מ"מ/דקה+200מ"מ על 200 מ"מ |
|
עבודת מצע גדולה- מדויקת |
MLM 500 |
0.5μm CD +200mmx200mm גודל |
הערות אחרונות
כל הדגמים של ליטוגרפיית UV ללא מסכות שלנו כוללים החלפת עדשות אוטומטית (חוסך זמן!) ואישורי ISO (ISO 9001/14001/45001 לאמינות). אנו מציעים גם אזורי חשיפה גדולים במיוחד-(עד 4 מ"ר)-פשוט בקש.
המודל ה"נכון" אינו היקר ביותר-זה זה שבודק את התיבות שלך. יש לך שאלות על מקרה שימוש? צור איתנו קשר עכשיו כדי לבחור את הפתרון המתאים ביותר לליטוגרפיית UV ללא מסכות.
